Focused ion Beam systeem geïnstalleerd; Industrial Partnership Programma met FEI

In 2006 verwierf AMOLF een 'NWO-Groot' subsidie voor de aanschaf van een Focused Ion Beam (FIB) systeem. Met dit systeem kan met behulp van een 30 keV Ga ionenbundel, die wordt gefocusseerd tot een spot met een diameter van 7 nm, materiaal worden geëtst, waardoor het mogelijk wordt materialen op nanoschaal te structureren. In het FIB-apparaat is een scanning-elektronenmicroscoop geïntegreerd, zodat dit proces "live" kan worden bestudeerd. Het apparaat was zes weken later reeds geïnstalleerd en operationeel.

Tegelijkertijd verwierf AMOLF financiering voor onderzoek op het gebied van plasmonoptica en fotonische kristallen binnen een Industrial Partnership Programma dat FOM eerder dit jaar sloot met FEI. Dit programma, 'Microscopy and modification of nano-structures with focused electron and ion beams', is een samenwerking tussen AMOLF en de Technische Universiteiten van Delft en Eindhoven, onder leiding van AMOLF-alumnus Prof. dr. ir. Pieter Kruit (TUD). Op AMOLF zullen de groepen van Kuipers, Vos en Polman onderzoeken hoe met focused ion beam milling nanostructuren kunnen worden gemaakt die interessant zijn voor optische toepassingen, wat de technische en fysische limieten zijn van de focused ion beam techniek, en hoe de techniek verder kan worden verbeterd.